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    硅片在快速热处理系统中的温度测量
      
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    中文摘要:
          国外为了提高计算机硅片的集成度和产品的合格率，开展了硅片快速热处理的研究，在这项新技术中温度测量起着关键的作用，由于地快速热化学蒸汽沉积过程中，硅片表面发射率变化影响了测温的准确性。本文介绍了在用辐射法测温时，同时测辐射量和反射率２个参数，然后由反射率计算发射率，通过计算机对测量结果进行了补偿的新技术，并介绍了原理，实验设备和初步实验结果。
    英文摘要:
          
    贺宗琴
    长城计量测试技术研究所!北京市，100095
    中文关键词:  硅片 温度测量 发射率 快速热处理 集成电路
    英文关键词:
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