影响同轴磁控溅射镀膜性能的几个问题
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TQ171.72 TB43

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    7近几年来,镀膜玻璃在建筑行业以及装饰行业已经得到了广泛的应用。而磁控溅射镀膜因其具有高速、低温、低损伤等优点,已经成为真空镀膜技术的主要方式。适用于建筑玻璃镀膜的磁控溅射靶,就其形式有两种:平面靶和同轴圆柱形靶。本文就影响同轴圆柱型磁控溅射靶的溅射性能方面做以下探讨。1磁控溅射原理图1说明如下:电子在电场作用下,加速飞向基片的过程中与氢原子发生碰撞,电离出Ar“并产生电子。电子飞向基片,Ar“在电场作用下加速飞向阴极(溅射靶)并以高能量轰击靶面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉…

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宋晓文.影响同轴磁控溅射镀膜性能的几个问题[J].计测技术,1998,(6):47~48:
[doi].

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